太阳能

2022, No.339(07) 68-73

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四甲基胍单晶硅片湿法制绒工艺研究
STUDY ON WET TEXTURING PROCESS OF MONO-Si WAFERS BASED ON TETRAMETHYLGUANIDINE

赵徐禛,张嘉华,康桥,黄仕华

摘要(Abstract):

首次采用有机碱——四甲基胍替代传统的氢氧化钠或氢氧化钾作为制绒刻蚀剂,邻苯二酚和硅酸钠作为制绒添加剂进行单晶硅片制绒,并通过实验对不同四甲基胍浓度、邻苯二酚浓度、反应温度、反应时间对单晶硅片制绒的影响进行了分析。研究结果表明:制绒后单晶硅片表面的金字塔分布密集、大小均匀;在400~1000nm的波长范围内,单晶硅片的平均反射率为9.16%,比采用传统的碱醇制绒体系制绒时获得的反射率低;同时,该制绒方法还消除了传统制绒刻蚀液中金属离子对单晶硅片的污染。

关键词(KeyWords): 四甲基胍;单晶硅片;制绒;反射率

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 浙江省重点研发计划项目(2021C01006)

作者(Author): 赵徐禛,张嘉华,康桥,黄仕华

DOI: 10.19911/j.1003-0417.tyn20210411.01

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