四甲基胍单晶硅片湿法制绒工艺研究STUDY ON WET TEXTURING PROCESS OF MONO-Si WAFERS BASED ON TETRAMETHYLGUANIDINE
赵徐禛,张嘉华,康桥,黄仕华
摘要(Abstract)：
首次采用有机碱——四甲基胍替代传统的氢氧化钠或氢氧化钾作为制绒刻蚀剂，邻苯二酚和硅酸钠作为制绒添加剂进行单晶硅片制绒，并通过实验对不同四甲基胍浓度、邻苯二酚浓度、反应温度、反应时间对单晶硅片制绒的影响进行了分析。研究结果表明：制绒后单晶硅片表面的金字塔分布密集、大小均匀；在400～1000nm的波长范围内，单晶硅片的平均反射率为9.16%，比采用传统的碱醇制绒体系制绒时获得的反射率低；同时，该制绒方法还消除了传统制绒刻蚀液中金属离子对单晶硅片的污染。
关键词(KeyWords)： 四甲基胍;单晶硅片;制绒;反射率
基金项目(Foundation): 浙江省重点研发计划项目(2021C01006)
作者(Author): 赵徐禛,张嘉华,康桥,黄仕华
DOI: 10.19911/j.1003-0417.tyn20210411.01
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