PECVD工序对多晶硅光伏组件层压色差的影响EFFECT OF PECVD PROCESS ON LAMINATION COLOR DIFFERENCE OF POLYSILICON PV MODULES
王贵梅,刘苗,朱少杰,张福庆,张鹏程
摘要(Abstract)：
以平板式PECVD设备的生产工序和多晶硅光伏组件层压色差为研究对象,通过实验研究和观测的方法,对PECVD底层氮化硅薄膜的硅氮比和反应仓密封性对光伏组件层压色差的影响进行了实验验证与分析。研究结果表明,底层氮化硅薄膜的硅氮比高会导致光伏组件外观有发绿或发黑色差;仓体密封性差会漏气,导致组件外观有发红或发灰色差。因此,针对PECVD工序制定合理的底层氮化硅薄膜的硅氮比范围和仓体漏气报警机制,可以有效避免光伏组件层压色差外观不良现象的产生。
关键词(KeyWords)： 多晶硅光伏组件;层压色差;底层氮化硅薄膜的硅氮比;PECVD
基金项目(Foundation):
作者(Author): 王贵梅,刘苗,朱少杰,张福庆,张鹏程
参考文献(References)：
- [1]欧森,何涛,孟祥武,等.不同气候条件下光伏组件PID现象研究[C]//第十四届中国光伏大会暨2014中国国际光伏展览会,北京, 2014.
- [2]王文静.晶体硅太阳电池制造技术[M].北京:机械工业出版社, 2013:120-121, 264-265.
- [3] CLAASSEN W, VALKENBURG W, HABRAKEN F, et al.Characterization of plasma silicon nitride layers[J]. Journal of the electrochemical society, 1983(130):2419-2423.
- [4] LAUINGER T, Untersuchung und optimierung neuartiger plasmaverfahren zur siliciumnitrid-beschichtung von silicium-solarzellen[M]. Deutschland:Shaker, 2001.