多晶硅酸制绒工艺研究
梁吉连,张健,孙瑜,张剑峰,卢玉荣,韩玮智,王仕鹏,黄海燕,陆川
摘要(Abstract):
利用化学腐蚀法制备多晶硅绒面,根据不同酸液配比研究了硅表面暗纹形成情况及对电池电性能的影响。实验结果表明:在富HNO3的环境下可有效减少暗纹的生成,通过实验优化工艺得出较佳的酸液配比为HF∶HNO3∶H2O=1∶4.5∶3.2,在此配比下电池片外观正常,电性能稳定性较好。
关键词(KeyWords): 多晶硅;太阳电池;酸制绒;暗纹
基金项目(Foundation):
作者(Author): 梁吉连,张健,孙瑜,张剑峰,卢玉荣,韩玮智,王仕鹏,黄海燕,陆川
参考文献(References):
- [1]孟振华,郭永权.晶体硅电池的价电子结构与光谱响应的相关性分析[J].科学通报,2012,57(28-29):2693-2698.
- [2]徐华天,冯仕猛,单以洪,等.多晶硅表面暗纹的形成以及消除技术研究[J].半导体光电,2012,33(5):690-692.
- [3]Mathijssen S,Braun S,Melnyk I,et al.Survey of acid texturing and new innovative acid processes of mc solar wafers[A].Proceeding of the 24th European Photovoltaic Solar Energy Conference[C],Hamburg,2009.
- [4]林育琼,冯仕猛,王坤霞,等.两步酸修饰的多晶硅绒面结构[J].材料科学与工程学报,2011,29(5):707-710.
- [5]Batzner D L,Sauer A,Hadam B,et al.Acidic wet chemical texturistion of mc-Si solar cells[A].Proceeding of the 22nd European Photovoltaic Solar Energy Conference[C],Milan,2007.
- [6]Yoo J,Yu G,Yi J.Large-area multicrystalline silicon solar cell fabrication using reactive ion etching[J].Solar Energy Materials and Solar Cells,2011,95(1):2-6.