空心阴极气流溅射法沉积Al掺杂ZnO膜的电学与光学性质(下)
刘光诒
摘要(Abstract)：
<正>图2为采用GFS法沉积出AZO膜的XRD图,其中,Ar流量为3000 sccm,总气体压强为50 Pa,O2流量为10~50 sccm。沉积在未加热衬底玻璃上的AZO薄膜厚度在500~600nm范围内;当衬底加热到200℃,AZO薄膜的厚度在250~350 nm范围内。当O2流量大于20 sccm时,沉积出AZO膜的XRD图上清晰地出现了一个(001)取向的Zn O峰;而O2流量为10 sccm时,在未加热衬底上沉积出AZO膜的XRD图上有小的Zn O及Zn峰;另一方面,在
关键词(KeyWords)：
基金项目(Foundation): 日本政府教育、文化、体育、科学与技术委员会(MEXIT)对私立大学高科技研究中心的竞技基金补贴费资助
作者(Author): 刘光诒