王贵梅,刘苗,朱少杰,赵环,李影影

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摘要(Abstract)：

由于多晶硅片表面在不同晶粒之间的晶格取向、绒面特性,反射率等方面都存在较大差别,因此在多晶硅片表面制备的SiNx膜的均匀性较差。研究微波板式PECVD设备相关配件对其在多晶硅片表面镀膜时膜层均匀性的影响。结果显示,石英管、耐高温胶带厂家的差异,气路的气孔个数差异,加热板、导波器的完好程度差异均会对微波板式PECVD设备在多晶硅片表面镀膜时的均匀性产生较大影响。

关键词(KeyWords)： 多晶硅片;SiNx膜;微波板式PECVD设备;均匀性

Abstract:

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基金项目(Foundation):

作者(Author): 王贵梅,刘苗,朱少杰,赵环,李影影

参考文献(References)：

• [1]王文静.晶体硅太阳电池制造技术[M].北京:机械工业出版社, 2013.
• [2]李松晓. SiOxNy光学薄膜折射率渐变特性研究[D].西安:西安工业大学, 2018.