微波板式PECVD设备多晶硅片表面镀膜均匀性影响因素的研究RESEARCH ON INFLUENCING FACTORS OF COATING UNIFORMITY ON POLYCRYSTALLINE SILLICON WAFER SURFACE OF MICROWAVE PLATE PECVD EQUIPMENT
王贵梅,刘苗,朱少杰,赵环,李影影
摘要(Abstract):
由于多晶硅片表面在不同晶粒之间的晶格取向、绒面特性,反射率等方面都存在较大差别,因此在多晶硅片表面制备的SiNx膜的均匀性较差。研究微波板式PECVD设备相关配件对其在多晶硅片表面镀膜时膜层均匀性的影响。结果显示,石英管、耐高温胶带厂家的差异,气路的气孔个数差异,加热板、导波器的完好程度差异均会对微波板式PECVD设备在多晶硅片表面镀膜时的均匀性产生较大影响。
关键词(KeyWords): 多晶硅片;SiNx膜;微波板式PECVD设备;均匀性
基金项目(Foundation):
作者(Author): 王贵梅,刘苗,朱少杰,赵环,李影影