中国光伏产业发展路线图2016年版(下)
摘要(Abstract):
<正>3.3.9 p型硅电池发射极掺杂技术目前,掺磷的p型硅电池发射极掺杂技术以POCl3气相扩散的均匀掺杂为主,2016年其市场份额占比达到98.2%,未来10年仍将是技术主流。回刻蚀的选择性发射极技术和离子注入掺杂的均匀发射极技术未来会占有小部分市场。激光掺杂的选择性发射极技术在2020年左右可能会出现应用,随着激光掺杂技术逐渐成熟,该种技术将
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