太阳能

2014, No.244(08) 39-41

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太阳选择性吸收涂层系列讲座(14) 活性环境空心阴极溅射特性与沉积Al_2O_3、ZnO掺杂和In_2O_3:Mo薄膜的应用(下)
Reactive-environment,hollow cathode sputtering:Basic characteristics and application to Al_2O_3,doped ZnO, and In_2O_3:Mo

Delahoy A E,Guo S Y,Paduraru C,范崇治

摘要(Abstract):

<正>2.4 ZnO掺杂透明导电氧化物沉积透明导电氧化物薄膜,例如SnO2、ITO、ZnO,有很多应用,如建筑玻璃、汽车、显示器、光伏器件。制备掺杂氧化锌膜用射频或脉冲直流溅射陶瓷靶,它含有ZnO和2%(重量比)Al2O3,无论如何靶的代价是过高的,而能用的功率密度是有限的。最近反应磁控溅射Zn:Al靶受到关注,虽然它需电压控制和氧分压强的闭环控制以保证工作在金属/氧化物过渡模式。

关键词(KeyWords):

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基金项目(Foundation):

作者(Author): Delahoy A E,Guo S Y,Paduraru C,范崇治

参考文献(References):

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