空心阴极气流溅射法快速沉积具有高活性光催化作用的TiO_2薄膜(下)High rate deposition of photocatalytic TiO_2 fi lms with high activity by hollow cathode gas-flow sputtering method
范崇治,Yoshiyuki Kubo,Yoshinori Iwabuchi,Masato Yoshikawa
摘要(Abstract)：
<正>图4a和4b分别为在UV-近红外光谱,刚沉积和经后退火工艺两种情况下的Ti O2膜。以上两种情况在可见光区域透射比几乎相同,与后退火无关。O2流量为10~50 sccm时,沉积的Ti O2膜在可见光区域具有的高透射比约为0.70。图5a为Ti O2膜在暗处停留60 min后,相应乙醛(CH3CHO)浓度与UV照射时间的关系。O2流量为10 sccm时,沉积的Ti O2膜相应CH3CHO
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作者(Author): 范崇治,Yoshiyuki Kubo,Yoshinori Iwabuchi,Masato Yoshikawa
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