高沉积率低动能气流溅射系统
范崇治,殷志强
摘要(Abstract)：
<正>在薄膜溅射沉积中,用具有能量的离子或中性粒子轰击薄膜对薄膜结构有重大影响,这些影响由于沉积条件的不同变化非常大,特别是质点轰击能量,沉积技术如离子团束(ICB)沉积、偏置溅射及离子束沉积已被用于控制粒子的流量和能量。一般说来,从100 eV到几千eV的质点能量用于离子加速技术易于控制,而低能量质点很难严格控制。
关键词(KeyWords)：
基金项目(Foundation):
作者(Author): 范崇治,殷志强
摘要(Abstract)：
<正>在薄膜溅射沉积中,用具有能量的离子或中性粒子轰击薄膜对薄膜结构有重大影响,这些影响由于沉积条件的不同变化非常大,特别是质点轰击能量,沉积技术如离子团束(ICB)沉积、偏置溅射及离子束沉积已被用于控制粒子的流量和能量。一般说来,从100 eV到几千eV的质点能量用于离子加速技术易于控制,而低能量质点很难严格控制。
关键词(KeyWords)：
基金项目(Foundation):
作者(Author): 范崇治,殷志强