空心阴极气流溅射法快速沉积具有高活性光催化作用的TiO_2薄膜(上)High rate deposition of photocatalytic TiO_2 films with high activity by hollow cathode gas-flow sputtering method
范崇治,Yoshiyuki Kubo,Yoshinori Iwabuchi,Masato Yoshikawa
摘要(Abstract)：
光催化剂TiO2薄膜是用两个平行Ti靶的空心阴极气流溅射方法沉积而成,氩气和氧气流量分别是3000 sccm和0~50 sccm,在沉积过程中总气压维持在45 Pa。在氧气流量为30 sccm时,TiO2膜最大沉积率为162 nm/min,之后在空气中300℃,1 h进行退火工艺,用来作光催化分解乙醛(CH3CHO),和一般反应溅射相比,后退火膜显示出非常高的光催化作用。
关键词(KeyWords)： 空心阴极气流溅射;沉积;光催化;TiO2
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作者(Author): 范崇治,Yoshiyuki Kubo,Yoshinori Iwabuchi,Masato Yoshikawa
参考文献(References)：
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