太阳能

2014, No.245(09) 16-17

[打印本页] [关闭]
本期目录(Current Issue) | 过刊浏览(Archive) | 高级检索(Advanced Search)

空心阴极气流溅射法快速沉积具有高活性光催化作用的TiO_2薄膜(上)
High rate deposition of photocatalytic TiO_2 films with high activity by hollow cathode gas-flow sputtering method

范崇治,Yoshiyuki Kubo,Yoshinori Iwabuchi,Masato Yoshikawa

摘要(Abstract):

光催化剂TiO2薄膜是用两个平行Ti靶的空心阴极气流溅射方法沉积而成,氩气和氧气流量分别是3000 sccm和0~50 sccm,在沉积过程中总气压维持在45 Pa。在氧气流量为30 sccm时,TiO2膜最大沉积率为162 nm/min,之后在空气中300℃,1 h进行退火工艺,用来作光催化分解乙醛(CH3CHO),和一般反应溅射相比,后退火膜显示出非常高的光催化作用。

关键词(KeyWords): 空心阴极气流溅射;沉积;光催化;TiO2

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation):

作者(Author): 范崇治,Yoshiyuki Kubo,Yoshinori Iwabuchi,Masato Yoshikawa

参考文献(References):

扩展功能
本文信息
服务与反馈
本文关键词相关文章
本文作者相关文章
中国知网
分享