预热型管式PECVD设备结构及其对镀膜性能影响的研究RESEARCH ON STRUCTURE OF PREHEATING TUBULAR PECVD EQUIPMENT AND ITS INFLUENCE ON COATING PERFORMANCE
龙会跃,李明,郭艳
摘要(Abstract)：
研究了预热型管式PECVD设备的结构及其对镀膜性能的影响。通过合理利用管式PECVD设备的净化台空间,对常规型管式PECVD设备的整体结构进行了优化设计,增加了具有预热功能的结构部件;然后通过实验研究了该预热型管式PECVD设备对沉积氮化硅薄膜工艺的影响。实验结果表明:预热型管式PECVD设备不仅能减少镀膜工艺的时长,提高产能,而且有利于提高炉管反应室截面温度场的均匀性、所镀膜厚的均匀性、太阳电池光电转换效率分布的集中度,从而有利于提高太阳电池的电性能,可在实际生产中推广应用。
关键词(KeyWords)： 管式PECVD;预热;镀膜;均匀性;优化设计
基金项目(Foundation):
作者(Author): 龙会跃,李明,郭艳
DOI: 10.19911/j.1003-0417.tyn20200427.01
参考文献(References)：
- [1]MAO G R,YUAN X J.Plasma-enhanced CVD silicon nitride as antireflection coating of silicon solar cells[J].Acta energiae solaris sinica,1988,9(3):286-290.
- [2]吴晓松,褚学宁,李玉鹏.基于正交试验的PECVD法沉积氮化硅薄膜工艺参数优化研究[J].人工晶体学报,2014,43(8):1913-1920.
- [3]刘志平,赵谡玲,徐征,等.PECVD沉积氮化硅膜的工艺研究[J].太阳能学报,2011,32(1):54-59.
- [4]陶涛,苏辉,谢自力,等.PECVD法氮化硅薄膜生长工艺的研究[J].微纳电子技术,2010,47(5):267-272,303.