张永,王贵梅,孟小玮,邵海娇,张建军

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摘要(Abstract)：

以管式PECVD设备的温控系统调节对镀膜均匀性的影响为研究对象,通过实验研究的方法,分别研究了温控系统调节中温区的温度设置、加热时间设置、整体温度设置,以及舟片间距设置对管式PECVD设备镀膜均匀性的影响。研究结果表明:将炉口到炉尾的温度设置为依次降低的趋势,或增加加热时间,或整体温度降低都可以缩小内、外舟片的温度差异,进而均可以明显改善管式PECVD设备的镀膜均匀性;另外,利用舟片间距不等的石墨舟可以解决由固定舟片位置产生的色差问题,外舟片间距由11 mm调整到12 mm可以明显改善由于外舟片受热程度高而带来的膜厚及折射率偏高的情况。

关键词(KeyWords)： 温控系统;加热时间;管式PECVD设备;镀膜均匀性

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基金项目(Foundation):

作者(Author): 张永,王贵梅,孟小玮,邵海娇,张建军

DOI: 10.19911/j.1003-0417.tyn20200618.01

参考文献(References)：

• [1]王文静.晶体硅太阳能电池制造技术[M].北京:机械工业出版社, 2013:116-119.
• [2]王蔚.集成电路制造技术:原理与工艺[M].北京:电子工业出版社, 2016:158-164.