张福庆,王贵梅,孙晓凯,赵鹏飞,曹占傲

• 1:晶澳太阳能有限公司

摘要(Abstract)：

在太阳电池制备过程中，采用等离子增强化学气相沉积（PECVD）工艺对硅片背面镀膜是其重要工序之一，但石墨舟卡点处的硅片在镀膜后常出现瑕疵，且制备的太阳电池进行电致发光（EL）测试时石墨舟卡点处存在EL发黑的情况，严重影响太阳电池的品质。基于此，以利用二合一管式PECVD设备进行硅片背面镀膜时出现的石墨舟卡点处硅片瑕疵及单晶硅太阳电池EL发黑的异常现象为研究对象，分析了此种PECVD设备镀膜时，射频电流、石墨舟卡点形状及石墨舟清洗液配方对石墨舟卡点处硅片和单晶硅太阳电池品质异常的影响，并提出了解决方案。结果表明：利用二合一管式PECVD设备进行硅片背面镀膜时，采用低射频电流、石墨舟采用与硅片接触面积大的卡点形状、石墨舟清洗液配方选择单纯的氢氟酸溶液，能有效解决石墨舟卡点处硅片和单晶硅太阳电池品质异常的情况，显著提升硅片使用该PECVD设备镀膜时的品质及太阳电池良品率。

关键词(KeyWords)： 二合一;管式PECVD设备;镀膜;石墨舟卡点处;硅片;太阳电池;品质异常

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation):

作者(Author): 张福庆,王贵梅,孙晓凯,赵鹏飞,曹占傲

DOI: 10.19911/j.1003-0417.tyn20210311.01

参考文献(References)：

• [1]姚玉,李良,李化阳,等.管式PECVD设备多晶硅镀膜均匀性的改善研究[J].太阳能, 2019(10):43-47.
• [2]胡军英，江民华.管式PECVD工艺对太阳电池镀膜颜色均匀性的影响研究[J].江西化工, 2020, 36(6):81-84.
• [3]张波,赵彩霞,杨飞飞,等.石墨舟对二次镀膜工艺的影响[J].山西能源学院学报, 2017, 30(4):215-216.
• [4]涂洪波,马超,王学林,等.晶硅太阳电池氮化硅膜产生色差的影响因素研究[J].化工中间体, 2013, 10(5):37-41.
• [5]吴大卫,贾锐,武德,等.氧化铝钝化在晶体硅太阳电池中的应用[J].微纳电子技术, 2011, 48(8):528-535.
• [6]李婷婷,周炳卿,闫泽飞.射频功率和沉积压强对富硅-SiNx薄膜微结构的影响[J].内蒙古科技大学学报, 2019,38(1):1-4, 28.
• [7]周春兰,王文静.晶体硅太阳能电池少子寿命测试方法[J].中国测试技术, 2007(6):25-31.
• [8]李跃,苏世杰,陈绍光,等.背钝化膜特性对PERC单晶硅太阳电池的影响研究[J].太阳能, 2019(5):54-57.