晶体硅太阳电池SIN:H减反射层的大规模在线溅射镀膜Winfried Wolke,Alexander Jaeckle,Ralf Preu,StephanWieder,Manfred Ruske
摘要(Abstract)：
<正>1 引言大多数多晶硅太阳电池的减反射膜都是用增强的等离子化学气相沉积法(PECVD)沉积的掺氢氮化硅膜层(SINX:H)。和其它减反射膜(如二氧化钛)相比,SINX:H的优点是它具有很好的表面
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